光敏聚酰亚胺(PSPI)是一类在高分子链上兼有亚胺环及光敏基团，集优异的热稳定性、良好的机械、电气、化学和感光性能于一体并且发展迅速的有机材料。目前，作为新型功能高分子材料PSPI已被广泛用在射线屏蔽层材料、绝缘层材料、缓冲层材料、平坦层材料、液晶定向层材料、非线性光学材料、光波导材料、离子注入掩膜、耐高温气液分离膜、挠性印制电路等各个方面，特别是在微电子、航天航空、光电子等领域，更是受到科研工作者的重视，显示了极大的发展潜力和市场竞争力。然而，国内仍处于起步阶段，无论是在研制与开发还是在工业化及其应用方面与日本、美国、西欧等国家和地区相比都有很大的差距，PSPI几乎全由国外进口，因此PSPI的研制和开发对我国高新技术产业发展具有极其重要的理论意义和实际意义。
根据PSPI的制备方法、结构特点及感光活性物质，可将PSPI大致分为以下几类：离子型负性PSPI、酯型负性PSPI、自增感型负性PSPI、邻硝基苄酯正性PSPI、聚异酰亚胺正性PSPI、重氮萘醌磺酸酯正性PSPI。但在工业上可供应的PSPI非常有限，国外也仅有酯型、离子型、自增感型等30g负性PSPI得到了实用化。酯型PSPI具有较好的溶解性能和良好的成膜性能，但是制得的高聚物分子量很低，致使其机械性能较差，热稳定性也相对下降。而离子型PSPI由于在亚胺化过程中脱去了大量分子，造成留膜率很低，大大影响了图形的分辨率，但其制备工艺相对而言非常方便、经济。自增感型PSPI虽然克服了离子型PSPI留膜率低的缺点，但因为曝光条件严格等因素造成其光刻后的图形分辨率下降，同时它的原料不像前两类可任意选择二元胺与酸酐，使得成本较高。
